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台積電發展3奈米製程,成功大學物理系教授吳忠霖研究團隊找到關鍵材料!他們成功研發出僅有單原子層厚度、約0.7奈米的二極體,更加輕薄,效率更高,將可滿足未來人工智慧晶片與機器學習所需大量計算效能的需求,未來手機充電一次說不定就能連續使用1個月。#請聽記者楊文君的採訪報導#半導體技術蓬勃發展,即將面臨積體電路微縮化的3奈米製程極限,因此科學家除改善積體電路中電晶體的基本架構外,也積極尋找具有優異物理特性且能微縮至原子尺度,約小於1奈米的電晶體材料。在科技部、國立成功大學、與國家同步輻射研究中心的支持下,成大物理系教授吳忠霖與同步輻射研究中心博士陳家浩所組成的國內研究團隊,成功地研發出僅有單原子層厚度,約0.7奈米且具優異的邏輯開關特性的二硒化鎢(WSe2)二極體。吳忠霖指出,此「二維單原子層二極體」的誕生,除了可超越「摩爾定律」、也就是積體電路上可容納的電晶體數目,約每隔18至24個月會增加一倍的極限預估,且更輕薄,效率更高,將可滿足未來人工智慧晶片與機器學習所需大量計算效能的需求。他說:『(原音)因為他夠快,所你可以想像,所有的自駕車可以在二維電晶體上、或是二極體上實現出來。』吳忠霖強調,未來若能將此微縮到極限的「二維單原子層二極體」組合成各種積體電路,就能大幅降低干擾並能增加運算速度,預期可超過現今電腦的千倍、萬倍,而且所需的能量極少,大量運算時也不會耗費太多能量,達到節能的效果,未來手機充電一次說不定就能連續使用1個月。此研究也在今年8月登上「自然通訊 Nature Communications」雜誌。原始連結


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    mangmie1817 發表在 痞客邦 留言(0) 人氣()